超純水設備
集成電路工業中用于半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固態電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的制作也都要使用超純水

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制備超純水設備的工藝大致分成以下幾種：
1、采用離子交換樹脂制備超純水的傳統水處理方式，其基本工藝流程為：原水→砂碳過濾器→陽床→陰床→混床→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點
2、采用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合的方式，其基本工藝流程為：原水→砂碳過濾器→反滲透設備→原水箱→純水泵→混床→后置精密過濾器→純水箱→用水點
3、采用反滲透水處理設備與電去離子（EDI）設備進行搭配的的方式，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水→砂碳過濾器→反滲透設備→原水箱→純水泵→電去離子（EDI）→純水箱→用水點
4、采用反滲透+混合床方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→砂碳過濾器→反滲透→中間水箱→中間水泵→混合床→微孔過濾器→用水點

以下為一經典18x106Ω•cm工藝流程及圖片：
原水→原水泵→砂碳過濾器→加藥裝置→一級反滲透→中間水箱→PH調節裝置→二級反滲透→二級水箱→輸送泵→精密過濾器→TOC去除機→EDI→超純水箱→輸送泵→拋光混床→UV殺菌器→精密過濾器→用水點

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集成電路工業中用于半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固態電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的制作也都要使用超純水

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超純水設備集成電路工業中用于半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固態電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的制作也都要使用超純水

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集成電路工業中用于半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固態電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的制作也都要使用超純水